提到光刻机，想必首先想到的就是来自荷兰的高端芯片光刻机，至于光刻机的工作原理，与冲洗照片十分类似。需要通过光刻机的紫外线，然后去除晶圆体表面的保护膜，然后将此前设计好的精密线路，再通过紫外线刻在晶圆体之上。可是这件事却属于听起来容易办起来难，因为光刻机性能的不同，所以导致芯片的纳米等级也不同。
目前全球光刻机制造的芯片，可以分为5至7纳米、7至28纳米、28至65纳米、65至90纳米等级别。而且随着全球科技不断发展，芯片对于各个国家有着十分重要的作用。因为无论是航天领域、民航客机，还是汽车、手机等领域，对于芯片的需求量一直比较大。那么为何全球拥有数十个发达国家，只有荷兰能制造高端光刻机，连美国都只能“心甘情愿”充当辅助和配角？说到光刻机最初的发展，还追溯到上个世纪60至70年代左右。当时美国研发的光刻机，可是全球顶尖存在。当然这和当时的光刻机工作原理比较简单，也有一定的关系。
那个时候的光刻机，就是通过光把电路图掩膜，涂刷在光敏胶的晶圆体之上，当时的晶圆体大小为一英寸左右。到了80年代之后，日本半导体产业在美国扶持下，也开始走向“巅峰”，甚至从最初需要美国帮助，直接成为超越后者，在半导体产业出口量领先全球。到了1984年，荷兰光刻厂成立之后，由于美日在半导体领域的地位无人能撼动，所以当时的阿斯麦公司不过是以接收一些小订单为主。到了1997年，美国半导体巨头英特尔与美国能源部组建EUV前沿技术组织，因此让摩托罗拉、AMD脱颖而出。
随后阿斯麦及时抓住机遇，成功在美国建厂。可是为了得到美国的承认，阿斯麦研发的产品中必须有55%的原材料，是从美国供货商手中拿货。此后阿斯麦便在光刻机领域迅速崛起，并且随着时间的沉淀，在高端光刻机领域已经做到了无人可及。
这就导致如今阿斯麦研发的光刻机，重量达到180吨，售价更是高达1.2亿美元左右。除此之外，即便购买到阿斯麦研发的EUV光刻机，但是还需要该公司专业人员对设备进行调试，时间长达一年。当然在阿斯麦研发的光刻机中，美国光源占据27%、荷兰与英国占据32%、日本与德国也占据一定的比例。不难看出，美国在光刻机领域，早已无法与阿斯麦相提并论，因此只能选择在幕后“打辅助”。这与美国制造业衰退，有着密切关联。
（文/华强）
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